NEWS 1999년 4월

선폭 0.1μm 이하 패턴 형성이 가능한
새로운 미세노광기술 IDEAL 개발

일본 캐논이 현재 주류를 이루고 있는 불화크립톤(KrF) 엑시머 레이저를 그대로 사용하면서도 선폭 0.1μm 이하 반도체회로 배선 패턴을 형성할 수 있도록 하는 새로운 미세 노광기술을 개발했다.

"이노베이티브 더블 익스포저 바이 어드밴스트 리소그래피(IDEAL)로 명명된 이 기술은 반도체회로의 배선 해상도를 기존의 약 2배로 높이는 광학노광기술로, 이를 이용하면 기존 스테퍼로도 차세대형이 추구하는 수준의 고해상도를 얻을 수 있다.

캐논은 이번에 회로원판(레티클)을 교환하면서 두 번 굽는 이중 노광기술을 독자적으로 개량해 실용화에 성공했다.

현재 일반적으로 보급돼 있는 KrF 스테퍼의 가격은 4억~5억엔으로 이번 여름부터 본격 출하가 시작되는 최첨단 장치도 8억5천만엔 정도의 가격대를 형성할 것으로 보인다.

여기에 IDEAL 기술을 KrF 스테퍼에 채택하는데 드는 비용 1천~2천만엔을 합치면 최첨단 기종의 경우에도 합계 9억엔 미만의 비용으로 ArF 스테퍼 수준의 미세가공 성능을 얻을 수 있다. 이에 반해 차세대형 ArF 스테퍼는 현재 출하되고 있는 연구개발용의 가격이 10억~12억엔이다.

이처럼 IDEAL 기술을 채택하면 낮은 비용으로 높은 해상도를 얻을 수 있으나, 처리과정이 레티클을 교환해 두 번 구워야 하는 등, 다소 복잡하기 때문에 처리능력은 크게 떨어진다.

KrF 스테퍼의 처리능력은 200mm 웨이퍼 기준으로 시간당 90~1백장이나 여기에 IDEAL을 단순히 도입할 경우 20~30장 수준에 그친다.

이 때문에 새 기술의 시장성에 의문을 제기하는 목소리도 나오고 있으나 캐논측은 반도체 업체들이 지난 수년간의 시황악화로 설비투자를 억제하고 있다는 점을 감안, IDEAL 수요는 당분간 꾸준히 확대될 것으로 보고 있다.