NEWS 2001년 6월

케이씨텍,
극저온 이산화탄소 이용 유기EL 세정장비 개발

반도체 및 평판디스플레이(FPD)용 세정장비 전문업체인 케이씨텍(대표 고석태)이 극저온 이산화탄소(CO₂)를 이용한 유기EL 세정장비 개발에 성공했다.
이 회사는 차세대 이동통신용 유기EL 디스플레이 패널 제조공정에 사용되는 유기EL 셀클리너(cell cleaner) (사진)를 개발하고 이달중으로 삼성 SDI에 공급할 예정이다고 최근 밝혔다.

이번에 개발된 극저온 이산화탄소(CO₂)를 이용한 세정기술은 그동안 이론적으로 정립돼 있었으나 기술구현이 어려워 세계적으로 상용화한 기업이 없었는데 이번에 세계 처음으로 상용화했다는 것이 회사측의 설명이다.
극저온 CO₂를 이용한 세정장비는 기존 화학적 세정기술에 비해 유해폐기물의 배출이 전혀 없으며 세정표면에 손상을 주지 않기 때문에 반도체 및 액정표시장치(LCD) 제조업체의 환경안전 보장, 공정단축, 수율향상을 통한 생산성 제고 및 원가절감에 기여할 수 있다.

또한 이 장비는 세정력이 우수해 300㎜ 웨이퍼 가공 같은 고집적 반도체 제조에 적용할 수 있으며 세정속도가 매우 빠른 것이 특징이다.
이 회사는 지난 98년부터 8억여원의 개발비를 들여 극저온 CO₂세정 기술개발에 나서 99년 3건, 2000년 4건, 2001년 1건 등 총 8건의 국내 특허를 출원했으며 미국·일본 등에서 해외특허출원 작업을 진행하고 있다.
이 회사는 반도체 웨이퍼용, LCD 및 플라즈마디스플레이패널(PDP)용, 반도체장비 부품용 극저온 CO₂ 세정장비를 추가로 제작해 국내외 업체에 판매할 계획이다.

이 회사 고석태 사장은 “환경규제가 날로 강화되고 있는 반도체 및 FPD산업 여건을 감안할 때 무공해 세정장비에 대한 수요는 폭발적으로 증가할 것으로 예상된다”며 “특히 극저온 CO₂ 세정기술은 반도체 및 LCD산업 외에 표면세정이 필요한 모든 산업에 적용이 가능, 부가가치가 높은 기술이기 때문에 새로운 시장을
 창출할 수 있을 것으로 기대된다”고 말했다.